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英伟达CEO黄仁勋确认Blackwell芯片设计缺陷已修复

英伟达(NVIDIA)创始人兼首席执行官黄仁勋
英伟达(NVIDIA)创始人兼首席执行官黄仁勋

【纬度新闻网】英伟达(Nvidia)首席执行官黄仁勋周三(10月18日)在丹麦表示,公司最新的Blackwell人工智能芯片由于设计缺陷导致生产延误,但这一问题已在长期合作伙伴台积电(TSMC)的帮助下得到修复。

该消息发布后,英伟达股价在早盘交易中下跌约2%。

英伟达今年3月发布了Blackwell芯片,原计划在第二季度开始发货,但因设计缺陷导致延迟,可能影响包括Meta、谷歌母公司Alphabet以及微软等客户的供应。

黄仁勋坦言:“Blackwell芯片存在设计缺陷,虽然功能正常,但设计问题导致良品率偏低。这完全是英伟达的责任。”

此前有媒体报道称,由于生产延迟,英伟达与TSMC之间的合作关系出现紧张,但黄仁勋否认了这些报道,称其为“假新闻”。

他进一步解释道:“为了让Blackwell芯片运作,英伟达从头设计了七种不同类型的芯片,并需要同时开始量产。TSMC帮助我们解决了良品率问题,并以惊人的速度恢复了Blackwell的生产。”

英伟达的Blackwell芯片相比上一代产品速度提升了30倍,尤其在处理聊天机器人等任务时表现卓越。黄仁勋此前在高盛的一次会议上表示,修复后的Blackwell芯片预计将在第四季度开始发货。

当天,黄仁勋在丹麦还宣布了英伟达与诺和诺德基金会(Novo Nordisk Foundation)及丹麦出口与投资基金合作推出的新超级计算机“Gefion”,该计算机配备了1,528个图形处理单元(GPU),为全球高性能计算领域再添一员强将。